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離子去膠機(jī)

發(fā)布時(shí)間:2020/7/21      點(diǎn)擊次數(shù):123

離子去膠機(jī) 型號(hào):PR-3

通過等離子體方法,對(duì)陶瓷片、硅片等襯底材料圖形上的光刻膠進(jìn)行干法去除。設(shè)備為單室真空系統(tǒng),主要由真空系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電氣系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、報(bào)警系統(tǒng)等部分組成。  
射頻電源采用RF500W電源控制。  
氣路系統(tǒng)采用兩臺(tái)浮子流量計(jì)控制氣體進(jìn)氣。 
  腔室結(jié)構(gòu):臥式、純石英 
  真空室規(guī)格:F210´300mm 
  限真空:1Pa(環(huán)境濕度≤55%) 
  真空系統(tǒng):機(jī)械泵 
  大裝片直徑: F4英寸 
   大裝片容量:4英寸 25片/爐 
  去膠速率: ~500A/min 
  去膠不均勻性:≤±5% (φ4吋范圍內(nèi)) 
  操作方式:手動(dòng)方式 
用戶可選配全自動(dòng)控制方式


 


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